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[font=宋体 ]吸嘴清洗机HENC-24简介[font=Wingdings ]l [font=宋体 ]在当今的半导体行业领域，随着SMT的发展，零部件的极小化、高密度贴装和底座的小型化成为了现实，而且今后的发展趋势将是元件进一步的小型化。由于芯片贴装，吸附吸嘴沾染焊锡焊剂等导致频繁发生故障，给生产带来很大的影响，已经成为一个迫切需要解决的问题。[font=Wingdings ]l [font=宋体 ]自动吸嘴清洗装置HENC-24采用全新高压射流脉冲清洗方式 ，可以在短时间内将吸嘴内壁，以前无法清除的污垢除去，使用的是无害工业纯净水(软水：HP值5-7)，在清除时不会损伤吸嘴，且有益于绿色环保.[font=宋体 ]
[font=宋体 ]高压射流技术[font=宋体 ]细微的水雾颗粒 连续加压将水碎化，产生约[font=Times New Roman ]0.03um[font=宋体 ]颗粒的水雾，使之能清洗到细小的吸嘴孔径内壁的污垢。[font=宋体 ]脉冲式动能场[font=宋体 ]以音速（[font=Times New Roman ]V=360m/s)[font=宋体 ]形成强大的脉冲式动能喷射到吸嘴上，在待清洗的吸嘴上方形成一个持续的能量场，[font=宋体 ][font=宋体 ]粉碎表面和内部的污垢达到清洗目的，[font=Times New Roman ]HENC-24[font=宋体 ]清洗效率：一次性清洗24[font=宋体 ]个吸嘴，总清洗时间为5[font=宋体 ]分钟，平均单个吸嘴清洗时间为：[font=Times New Roman ]12.5[font=宋体 ]秒钟 。 以1[font=宋体 ]小时（3600S[font=宋体 ]）计算可清洗12[font=宋体 ]次，除去每次更托盘时间约15[font=宋体 ]秒，1[font=宋体 ]个人1[font=宋体 ]小时[font=Times New Roman ]内可以清洗（3600-12×15[font=宋体 ]）÷15= 275[font=宋体 ]只 吸嘴。如保养1[font=宋体 ]台贴片，96[font=宋体 ]只吸嘴，保养吸嘴可以[font=Times New Roman ]缩短40[font=宋体 ]分钟，人工清洗大概须要1[font=宋体 ]小时，且无法保证吸嘴清洁度。
超声波清洗效率：一次性可以放多个吸嘴（视超声波大小），清洗3[font=宋体 ]分钟后，手动拿住吸嘴吹干，再擦拭反光板。一次性可以清洗24[font=宋体 ]个计算，平均单个清洗时间为：7.5[font=宋体 ]秒钟，吹干和擦拭[font=Times New Roman ] ，手动清洗效率：只能单支吸嘴清洗，先手动注射酒精后吹气，再擦拭反光板，所有步骤完成大概须要35-40[font=宋体 ]（秒）。
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