ZESTRON 将出席2016 SMTA 华东高科技会议

全球领先的电子制造业精密清洗产品、技术支持及专业培训提供商ZESTRON将出席2016年4月26日与 NEPCON上海展同期召开的2016 SMTA华东高科技会议，来自ZESTRON中国区的资深工艺工程师吴明先生将发表以“pH中性清洗剂的市场预期及其卓越清洗表现”为题的技术演讲。 [ 转自SMT之家论坛 http://bbs.smthome.net ] /X.zt `  

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由于无铅锡膏在行业中的广泛应用及其所需的更高炉温曲线带来的影响，想要去除焊接后的助焊剂变得越来越困难，而元器件封装密度和封装程度的升高、引脚数量的增加、引脚间距和底部间隙的缩小等一系列因素，给后续的清洗工艺带来了巨大的挑战。通常碱性水基型清洗液也能够有效去除这些助焊剂残留物，但是为了达成这个目标，往往需要对清洗工艺的参数进行一些调整，如提高清洗温度、延长清洗时间、增加清洗液浓度或加强物理激励。但同时，这些工艺参数的调整，可能会给材料兼容性带来新的挑战。这时候市场对于pH中性清洗液的需求就应运而生。 LxhS 9  

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[ 转自SMT之家论坛 http://bbs.smthome.net ] {:!>Y1w>  

吴明先生将在他的演讲中对pH中性清洗液与碱性清洗液进行对比，通过详实的数据来展示pH中性清洗液在清洗效果和材料兼容性方面的巨大优势。 \XV8t|*  

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