ZESTRON出席武汉技术研讨会并发表专题演讲

聚焦华中地区市场发展，ZESTRON出席由SMT China 在武汉举办的“一步步新技术研讨会”并发表“主流清洗工艺概览”专题演讲 [ 转自SMT之家论坛 http://bbs.smthome.net ] Sw5:
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全球领先的电子制造业精密清洗产品、清洗技术支持及培训方案提供商ZESTRON出席了于2015年11月13日在武汉举办的“一步步新技术研讨会”。ZESTRON中国区资深工艺工程师丁一先生发表了以“主流清洗工艺概览”为题的技术演讲。 DiTpjk]c`  

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随着时代的发展，行业越来越关注清工艺，希望通过优化工艺来获得更好的产品可靠性以及更经济节约的成本方案。丁一先生在他的演讲中展示了关于主流清洗工艺的概略性的介绍，为听众解释了不同物理激励方式的原理，另外，丁先生向现场观众介绍了ZESTRON清洗剂中所包含的核心技术：MPC® （微相清洗技术）和FAST® （快效表面活性剂技术）。这些创新型的解决方案专门设计用于彻底去除有机和无机的污染物残留物，如助焊剂、锡膏及SMT胶水残留等。 ?mSZQF:d@  

[ 转自SMT之家论坛 http://bbs.smthome.net ] n&zEYCSI  

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